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Filtro UV K&F Concept 77MM com MRC e tecnologia Nano X para proteção de lentes

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Código: prl79808VN Marca:
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O Filtro UV K&F Concept de 77MM é uma ferramenta essencial para fotógrafos e cineastas que buscam aprimorar a qualidade de suas imagens, protegendo ao mesmo tempo as lentes de seus equipamentos. Com a sua construção de alta qualidade, este filtro é equipado com a tecnologia MRC (Multi-Resistant Coating) que minimiza reflexos indesejados e reduz a chance de arranhões, garantindo que suas fotografias mantenham a clareza e a precisão de cores. A tecnologia Nano X oferece uma resistência adicional à umidade e à poeira, facilitando a limpeza e manutenção do filtro, mesmo em condições desafiadoras.\n\nAlém de sua proteção eficaz, o filtro UV K&F Concept também contribui para a saturação das cores e a eficiência dos sensores, sendo ideal para capturas em ambientes externos. Com um design elegante e moderno, ele se encaixa perfeitamente em qualquer objetiva com rosca de 77MM, assegurando que a qualidade da imagem não seja comprometida. Invista na proteção e na performance de suas lentes com este filtro UV de alta performance e leve suas fotografias a um novo patamar.

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